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1200℃雙管滑動式單、多溫區(qū)CVD系統(tǒng)
關鍵詞：
CVD系統(tǒng)
銷售熱線：
- 產(chǎn)品描述
- 技術參數(shù)
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- 商品名稱: 1200℃雙管滑動式單、多溫區(qū)CVD系統(tǒng)
- 商品編號: 1034429665285857280
產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計，特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動爐實現(xiàn)快速加熱和冷卻。
銷售熱線：15122725930
產(chǎn)品用途：
此款CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計，特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔
電極方面的研究，通過滑動爐實現(xiàn)快速加熱和冷卻。
產(chǎn)品組成：
CVD系統(tǒng)配置：
1.1200度開啟式真空管式爐（可選配單溫區(qū)及雙溫區(qū)）。
2.滑動系統(tǒng)分為手動、電動滑動，并配有風冷系統(tǒng)。
3.內(nèi)外雙石英管，采用真空可通氣氛雙法蘭特殊連接。
4.多路氣體流量控制系統(tǒng)（質(zhì)子流量控制器和浮子流量控制器）
5.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）
產(chǎn)品特點：
產(chǎn)品獨特性
1 控制電路選用模糊PID程控技術，該技術控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單。
2 氣路快速連接法蘭結(jié)構(gòu)采用本公司設計,提高操作便捷性。
3 中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統(tǒng)采用高壓強，耐沖擊分子泵，防止意外漏氣造成分子泵損壞，延長系統(tǒng)使用壽命。
4 (電動)滑動系統(tǒng)采用溫度控制器自動控制爐體移動，等程序完成，爐體按設定的速度滑動，因有滑動限位功能，爐體不會發(fā)生碰撞，待樣品露出爐體后，通過風冷系統(tǒng)快速降溫。
5 雙管真空密封法蘭，反應氣體可以在內(nèi)外管之間發(fā)生反應，冷卻氣體可通過內(nèi)管，從而使內(nèi)管外壁溫度降低。
系統(tǒng)名稱
1200℃雙管滑動式單/多溫區(qū)CVD系統(tǒng)
系統(tǒng)型號
CVD-12II6SH-3Z/G
CVD-12III9SH-3Z/G
最高溫度
1200℃
加熱區(qū)長度
610mm
940mm
恒溫區(qū)長度
400mm
700mm
溫區(qū)
雙溫區(qū)
三溫區(qū)
石英管管徑
內(nèi)管：Φ80mm 外管：Φ100mm
額定功率
4.8Kw
7.2Kw
額定電壓
220V
380V（三相）
滑動距離
485mm
650mm
滑動方式
手動滑動/自動滑動(由溫度控制器自動控制移動，當程序完成，爐子按設定的速度滑動）
溫度控制
國產(chǎn)程序控溫系統(tǒng)50段程序控溫；
控制精度
±1℃
爐管最高工作溫度
＜1200℃
雙管法蘭連接
采用雙法蘭雙卡箍連接可擴展多功能，并且分別獨立對內(nèi)管和外管進行真空和氣體流量控制.密封法蘭與管件連接的地方采用多環(huán)密封技術，在密封法蘭與管外壁間形成了密封，在管件外徑誤差較大的情況下密封仍然有效，該密封法蘭的安裝只需在第一次使用設備的時候安裝
氣體控制方式
質(zhì)量流量計
氣路數(shù)量
3路（可根據(jù)具體需要選配氣路數(shù)量）
流量范圍
0-500sccm(標準毫升/分，可選配）氮氣標定
精度
±1%F.S
響應時間
≤4sec
工作溫度
5-45℃
工作壓力
進氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力）
系統(tǒng)連接方式
采用KF快速連接波紋管、高真空手動擋板閥及數(shù)顯真空測量儀
規(guī)格
高真空
系統(tǒng)真空范圍
1x10-3Pa-1x10-1Pa
真空泵
真空分子泵理論極限真空度
5x10-6Pa抽氣速率1600L/S
額定電壓220V 功率2Kw爐體外形尺寸
480×770×605mm
410×1100×605mm
系統(tǒng)外形尺寸
530×1440×750mm(不含高真空)
系統(tǒng)總重量
340Kg
關鍵詞:- CVD系統(tǒng)
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